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研磨拋光常識

2016-05-25 14:45:00

機械製備

對於微觀檢驗來說,機械製備是材料微觀結構分析試樣的最常用的製備方法,它采用粒徑連續變細的磨料將材料從試樣表麵去除,直到獲得要求的製備結果。

如金相分析製備原理所述,試樣既可製備至完美表麵和真實結構,也可在試樣表麵滿足特定檢驗目的時停止製備。

分析或檢驗的類型決定了製備表麵的具體要求。 不管抖奶視頻app官網的目標是什麽,製備作業必須以一種係統、可再現的方式進行,以最低成本保證最佳製備結果。

金相拋光機

過程定義

機械製備可分為兩個操作過程: 研磨與拋光。 

三靈科技開發的機械製備係列設備在業內首屈一指。抖奶視頻app官網可提供大量研磨和拋光設備,滿足用戶在製備能力、製備質量及再現性等方麵的各種需求。

經驗證明,自動化是實現製備再現性和高質量製備的先決條件。另外,自動化還可控製易耗品消耗量,幫助您節省 大量財力。三靈科技機械製備設備與易耗品的組合,是以平均每個試樣的最低成本獲得最優質製備結果的最佳保障。

研磨

機械式材料去除的第一步被稱為研磨。適當研磨可去除受損或變形的表麵材料,並將新變形的數量控製在有限範圍內。研磨的目的是:獲得平整的表麵,將損傷降到最低程度,並可在拋光過程中以最短的時間輕鬆去除這些損傷。研磨可劃分為兩個獨立的過程。

1. 粗磨

2. 精磨

三靈新型研磨盤將碳化矽研磨紙的典型研磨過程減少到兩個步驟,從而縮短了總製備時間,且製備質量相比碳化矽研磨紙得到了大幅提升。因此,三靈新型研磨盤在價格和性能上均優於碳化矽研磨紙。

第一步研磨通常被稱為粗磨(PG)。

粗磨可保證所有試樣均獲得類似的表麵,不管其初始狀況及前期處理如何。另外,當試樣座中有若幹個試樣需要處理時,它們必須處於同一水準或“平麵”,以利於試樣的進一步製備。

第 一步研磨采用了是一款金剛石磨盤(金相砂紙),專為 150 至2000 HV 硬度範圍內材料的粗磨而設計開發。先采用金剛石磨盤作,可在短時間內始終獲得較高的材料去除量。 這些研磨盤對硬質和軟質材料或位相均具有等效切削作用。因此,使用這些研磨盤可製備出絕對平整的試樣,不同位相間不會產生任何浮凸缺陷。樹脂與試樣交接麵 的邊角修圓缺陷也得到了徹底消除。

精磨而成的試樣表麵僅有少量變形,可在拋光過程中消除。 

精磨通常分多個步驟在粒度連續減小的碳化矽金相砂紙上完成。使用的金剛石晶粒度為15至6微米; 隨後以6微米或3微米的晶粒度精磨,即可獲得完美表麵。

精磨盤上塗敷了金剛石磨料,硬質相和軟質相材料均可獲得始終如一的材料去除率。 軟質相材料不會產生汙斑,脆質相材料不會產生碎屑,試樣可保持完美的平麵度。 後續拋光步驟可在最短時間內完成。

拋光

與研磨一樣,拋光必須消除先前步驟中產生的損傷。 分步拋光、連續減小磨料粒度可實現這一目標。 拋光可分為兩個不同的過程。

1. 金剛石拋光

2. 氧化物拋光

用金剛石作為拋光磨料,可以最快速度去除材料並獲得最佳平麵度。 現有的其他材料均不可能獲得類似結果。 金剛石的高硬度幫助您輕鬆切穿所有材料和位相。

某些材料,尤其是軟質和韌性材料,需 要通過終拋光來獲得最佳製備質量。此時可采用氧化物拋光法。膠態氧化矽的晶粒度約為0.3um,pH 值約為 9.8,可為您呈現優異的製備結果。 化學活性輔以精細、溫和研磨,可製成絕無劃痕和變形的試樣。納米氧化鋁粉配置的拋光懸浮液,在各類材料上均可獲得完美的拋光結果。可配合各種試劑使用,試劑會增強化學反應,使勝任高韌性材料的製備。酸性氧化鋁懸浮液,適用於低合金鋼、高合金鋼、鎳基合金及陶瓷材料的終拋光。

易耗品

拋光過程在拋光布上完成 。金剛石拋光時必須使用潤滑劑。 拋光布、金剛石晶粒度及潤滑劑的選擇取決於需要拋光的材料類型。最初的拋光步驟通常在低彈力拋光布上完成,軟質材料需使用低粘度潤滑劑。終拋光時,需采用 彈力較高的拋光布和粘度較高的潤滑劑。

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